专利名称：模版形成方法专利类型：发明专利发明人：赖元章
申请号：CN03149603.2申请日：20030801公开号：CN1581325A公开日：20050216
摘要：一种模版形成方法，其用以形成一模版，且包括下列步骤：于一基版上涂布一光阻层；于光阻层上形成一图案化的半遮蔽层(patterned semi－blocked layer)；以一光束曝光光阻层，其中半遮蔽层削减光束的能量以部分遮蔽此光束；显影光阻层；以及朝光阻层的方向溅镀一金属层。
申请人：精碟科技股份有限公司
地址：台湾省台北县
国籍：CN
代理机构：北京纪凯知识产权代理有限公司
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