一种高深径比微孔的制备装置[实用新型专利]

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专利内容由知识产权出版社提供

专利名称：一种高深径比微孔的制备装置专利类型：实用新型专利

发明人：单炯,饶大幸,崔勇,李小莉,周士安,马伟新申请号：CN2015204466.7申请日：20150626公开号：CN204771160U公开日：20151118

摘要：本实用新型涉及一种高深径比微孔的制备装置，用以高深径比微孔。本实用新型的制备装置是利用双脉冲组合的方式来制备高深径比微孔，在激光光源中包含了两种脉宽不同的激光组合，利用数字信号延时发生器分别控制双脉冲组合达到样品的时间，两种激光器的激光脉冲通过光学元器件组合聚焦至样品上，直接对样品进行激光刻蚀；制备装置中包括有飞秒激光器、纳秒激光器、数字信号延时发生器、半波片、光学起偏器、分束镜、全反射镜、白光光源、电荷耦合元件、三维移动平台和电脑。本实用新型技术可以直接突破单脉冲所能制备的最大微孔深径比极限，很好地解决目前微孔制备中深径比不高的技术难题。

申请人：中国工程物理研究院上海激光等离子体研究所

地址：2019 上海市嘉定区陈家山路1129号

国籍：CN

代理机构：上海智力专利商标事务所

代理人：周涛

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