一种镜片镀膜方法[发明专利]

(12)发明专利申请

(10)申请公布号 CN 108048803 A(43)申请公布日 2018.05.18

(21)申请号 201711353324.3(22)申请日 2017.12.15

(71)申请人 奥特路（漳州）光学科技有限公司

地址 360000 福建省漳州市龙文区蓝田镇

长山农场龙文中学边上(72)发明人 吴晓彤　

(74)专利代理机构 福州君诚知识产权代理有限

公司 35211

代理人 翁志霖(51)Int.Cl.

C23C 14/30(2006.01)C23C 14/08(2006.01)C23C 14/06(2006.01)C23C 14/02(2006.01)G02B 1/10(2015.01)

权利要求书1页 说明书3页 附图1页

()发明名称

一种镜片镀膜方法(57)摘要

本发明公开一种镜片镀膜方法，其包括以下步骤：步骤1：清洗镜片基体表面并固定在真空腔室内；步骤2：对真空腔室抽真空；步骤3：加硬膜层：步骤4：将加硬处理后的镜片进行退火处理，步骤5：将退火处理后的镜片基片进行离子轰击清洗步骤6：制备变色材料薄膜层，步骤7：制备金属氧化物膜层，步骤8：制备氟化物膜层，步骤9：解除真空取出镜片。本发明的优点在于蒸发材料不受，蒸发速率高，而且蒸发速率和电子束聚集调节方便，并且在蒸发材料局部熔化时，蒸发材料不与真空腔室发生方应，保证膜料纯度较高。CN 108048803 ACN 108048803 A

权　利　要　求　书

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1.一种镜片镀膜方法，其特征在于：其包括以下步骤：步骤1：清洗镜片基体表面并固定在真空腔室内；步骤2：对真空腔室抽真空；使得真空度不高于3×10-7 Pa，步骤3：加硬膜层：将镜片基片浸入甲基硅树脂强化溶液中，保持真空腔室内加硬处理温度为115-125℃，2小时后将镜片基片取出并送至烘干箱内干燥固化，烘干温度120℃，固化时间60分钟 ；

步骤4：退火处理：将加硬处理后的镜片进行退火处理：步骤5：二次清洗：将退火处理后的镜片基片置于真空镀膜舱内，用霍尔离子源对镜片基片进行离子轰击3-5分钟；

步骤6：变色材料薄膜层的制备，保持真空腔室的真空度达到2×10-7Pa，同时保持真空腔室内的温度为50-70℃，启动电子束，调整电子束的位置，同时控制第四膜层蒸镀的速率为2.5Å/S；调节束流，在加硬膜层的表面上蒸镀一层变色材料薄膜，关闭电子束；

步骤7：金属氧化物膜层的制备：保持真空腔室的真空度达到2×10-7 Pa，同时保持真空腔室内的温度为50-70℃，启动电子束，调整电子束的位置，同时控制第四膜层蒸镀的速率为2.5Å/S；调节束流，在减反射膜层的表面上蒸镀金属氧化物膜层，关闭电子束；

步骤8：氟化物膜层的制备：保持真空腔室的真空度达到3×10-7 Pa，同时保持真空腔室内的温度为50-70℃，启动电子束，调整电子束的位置，同时控制第四膜层蒸镀的速率为7.0Å/S；调节束流，在金属氧化物膜层的表面上蒸镀氟化物膜层，关闭电子束；

步骤9：解除真空：关闭分子泵，开启进气阀，通入空气，取出镜片。2.根据权利要求1所述的一种镜片镀膜方法，其特征在于：步骤1中采用酒精溶剂或超声波清洗镜片表面。

3.根据权利要求2所述的一种镜片镀膜方法，其特征在于：步骤1具体包括以下步骤：步骤1-1:为了去除树脂镜片基体表面的有机物，先用双氧水和浓硫酸的混合溶液浸泡，再超声25min后用去离子水清洗；

步骤1-2:把镜片基体先后放入丙酮溶液、乙醇溶液和去离子水中超声30min，以提高树脂镜片基体表面活性，从而增加薄膜与树脂镜片基体材料的结合力；

步骤1-3:清洗结束后将树脂镜片基体置于烘箱干燥，干燥后固定在基片台上，然后将基片台旋紧在真空腔室的转盘上。

4.根据权利要求3所述的一种镜片镀膜方法，其特征在于：步骤1-1中双氧水和浓硫酸的体积比为3：1。

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CN 108048803 A

说　明　书一种镜片镀膜方法

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技术领域

[0001]本发明涉及镜片技术领域，尤其涉及一种镜片镀膜方法。

背景技术

[0002]随着光学产品的发展，光学镜片的应用范围越来越广。在镜片表面镀制光学薄膜系光学薄膜技术应用范围之一，镜片经过不同的镀膜处理后，可以形成减少反射光、截止紫外线、阻挡红外线、防水、防雾、防雾、防腐蚀、耐摩擦及彩色装饰、光致变色等多种效果，为人们的工作和生活带来新的价值，这种眼镜片也叫加膜镜片或镀膜眼镜片。近年来，随着人们消费水平的不断提高，各种镀膜眼镜片愈来愈受消费者的青睐，市场行情日益走俏。[0003]镀膜工序为后续处理中的重要步骤之一，镀膜是指以物理或化学方法在光学元件表面镀上单层或多层薄膜，利用入射、反射及透射光线在薄膜界面产生的干涉作用实现聚焦、准直、滤光、反射及折射等效果。现有的镜片基本采用塑料或者树脂镜片进行镀膜，制成的镜片容易磨损，且镀膜完成后镜片的透射率可以达到90%左右，但是很难达到98%以上，清晰度不高。

发明内容

[0004]本发明的目的在于克服现有技术的不足，提供一种镜片镀膜方法。[0005]本发明采用的技术方案是：

一种镜片镀膜方法，其包括以下步骤：步骤1：清洗镜片基体表面并固定在真空腔室内；步骤2：对真空腔室抽真空；使得真空度不高于3×10-7 Pa，步骤3：加硬膜层：将镜片基片浸入甲基硅树脂强化溶液中，保持真空腔室内加硬处理温度为115-125℃，2小时后将镜片基片取出并送至烘干箱内干燥固化，烘干温度120℃，固化时间60分钟 ，

步骤4：退火处理：将加硬处理后的镜片进行退火处理：步骤5：二次清洗：将退火处理后的镜片基片置于真空镀膜舱内，用霍尔离子源对镜片基片进行离子轰击3-5分钟，

步骤6：变色材料薄膜层的制备，保持真空腔室的真空度达到2×10-7Pa，同时保持真空腔室内的温度为50-70℃，启动电子束，调整电子束的位置，同时控制第四膜层蒸镀的速率为2.5Å/S；调节束流，在加硬膜层的表面上蒸镀一层变色材料薄膜，关闭电子束；

步骤7：金属氧化物膜层的制备：保持真空腔室的真空度达到2×10-7 Pa，同时保持真空腔室内的温度为50-70℃，启动电子束，调整电子束的位置，同时控制第四膜层蒸镀的速率为2.5Å/S；调节束流，在减反射膜层的表面上蒸镀金属氧化物膜层，关闭电子束；

步骤8：氟化物膜层的制备：保持真空腔室的真空度达到3×10-7 Pa，同时保持真空腔室内的温度为50-70℃，启动电子束，调整电子束的位置，同时控制第四膜层蒸镀的速率为7.0Å/S；调节束流，在金属氧化物膜层的表面上蒸镀氟化物膜层，关闭电子束；

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说　明　书

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步骤9：解除真空：关闭分子泵，开启进气阀，通入空气，取出镜片。[0006]进一步地，步骤1中采用酒精溶剂或超声波清洗镜片表面。[0007]进一步地，步骤1具体包括以下步骤：

步骤1-1:为了去除树脂镜片基体表面的有机物，先用双氧水和浓硫酸的混合溶液浸泡，再超声25min后用去离子水清洗；

步骤1-2:把镜片基体先后放入丙酮溶液、乙醇溶液和去离子水中超声30min，以提高树脂镜片基体表面活性，从而增加薄膜与树脂镜片基体材料的结合力；

步骤1-3:清洗结束后将树脂镜片基体置于烘箱干燥，干燥后固定在基片台上，然后将基片台旋紧在真空腔室的转盘上。[0008]进一步地，步骤1-1中双氧水和浓硫酸的体积比为3：1。[0009]本发明采用以上技术方案，薄膜厚度一般为几十到几百纳米，薄膜厚度大小与蒸发源的速率和时间，并于源和基片距离有关，由于是大面积镀膜，为保证膜层厚度的均匀性，采用旋转基片的方式镀膜。

[0010]此外在镀膜之前需进行离子轰击清洗，其机理主要依靠等离子体中的活性粒子的活化作用达到去除物体表面污溃的目的，等离子清洗具有如下特点：容易采 用数控技术，自动化程度高，具有高精度的控制装置，时间控制精度高。[0011]本发明的优点在于蒸发材料不受，蒸发速率高，而且蒸发速率和电子束聚集调节方便，并且在蒸发材料局部熔化时，蒸发材料不与真空腔室发生方应，保证膜料纯度较高。

附图说明

[0012]以下结合附图和具体实施方式对本发明做进一步详细说明；

图1为本发明一种镜片镀膜方法的流程示意图；

图2为本发明一种镜片镀膜方法的镜片清洗流程示意图。

具体实施方式

[0013]如图1或2所示，本发明公开了一种镜片镀膜方法，其包括以下步骤：

步骤1：清洗镜片基体表面并固定在真空腔室内；步骤2：对真空腔室抽真空；使得真空度不高于3×10-7 Pa，步骤3：加硬膜层：将镜片基片浸入甲基硅树脂强化溶液中，保持真空腔室内加硬处理温度为115-125℃，2小时后将镜片基片取出并送至烘干箱内干燥固化，烘干温度120℃，固化时间60分钟 ；

步骤4：退火处理：将加硬处理后的镜片进行退火处理：步骤5：二次清洗：将退火处理后的镜片基片置于真空镀膜舱内，用霍尔离子源对镜片基片进行离子轰击3-5分钟；

步骤6：变色材料薄膜层的制备，保持真空腔室的真空度达到2×10-7Pa，同时保持真空腔室内的温度为50-70℃，启动电子束，调整电子束的位置，同时控制第四膜层蒸镀的速率为2.5Å/S；调节束流，在加硬膜层的表面上蒸镀一层变色材料薄膜，关闭电子束；

步骤7：金属氧化物膜层的制备：保持真空腔室的真空度达到2×10-7 Pa，同时保持真

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说　明　书

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空腔室内的温度为50-70℃，启动电子束，调整电子束的位置，同时控制第四膜层蒸镀的速率为2.5Å/S；调节束流，在减反射膜层的表面上蒸镀金属氧化物膜层，关闭电子束；

步骤8：氟化物膜层的制备：保持真空腔室的真空度达到3×10-7 Pa，同时保持真空腔室内的温度为50-70℃，启动电子束，调整电子束的位置，同时控制第四膜层蒸镀的速率为7.0Å/S；调节束流，在金属氧化物膜层的表面上蒸镀氟化物膜层，关闭电子束；

步骤9：解除真空：关闭分子泵，开启进气阀，通入空气，取出镜片。[0014]进一步地，步骤1中采用酒精溶剂或超声波清洗镜片表面。[0015]进一步地，步骤1具体包括以下步骤：

步骤1-1:为了去除树脂镜片基体表面的有机物，先用双氧水和浓硫酸的混合溶液浸泡，再超声25min后用去离子水清洗；

步骤1-2:把镜片基体先后放入丙酮溶液、乙醇溶液和去离子水中超声30min，以提高树脂镜片基体表面活性，从而增加薄膜与树脂镜片基体材料的结合力；

步骤1-3:清洗结束后将树脂镜片基体置于烘箱干燥，干燥后固定在基片台上，然后将基片台旋紧在真空腔室的转盘上。[0016]进一步地，步骤1-1中双氧水和浓硫酸的体积比为3：1。[0017]本发明采用以上技术方案，薄膜厚度一般为几十到几百纳米，薄膜厚度大小与蒸发源的速率和时间，并于源和基片距离有关，由于是大面积镀膜，为保证膜层厚度的均匀性，采用旋转基片的方式镀膜。

[0018]此外在镀膜之前需进行离子轰击清洗，其机理主要依靠等离子体中的活性粒子的活化作用达到去除物体表面污溃的目的，等离子清洗具有如下特点：容易采 用数控技术，自动化程度高，具有高精度的控制装置，时间控制精度高。[0019]本发明的优点在于蒸发材料不受，蒸发速率高，而且蒸发速率和电子束聚集调节方便，并且在蒸发材料局部熔化时，蒸发材料不与真空腔室发生方应，保证膜料纯度较高。

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说　明　书　附　图

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图1

图2

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